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远光软件数据标志符专利通过国家知识产权局授权
发布时间:2025-07-07 12:14:05  来源:鑫源环保工程有限公司

远光图文导读图1.显示织物的结构和电致发光性能。

(i-l),软件SiOx/C电极在0.5Ag-1电流密度下100次循环后的HAADF-STEM和对应的EDS元素映射图。Si/C纳米复合材料可有效地解决SiNPs的固有问题,数据识产授权不仅提高了材料的导电性,而且缓解了充放电过程中的体积变化,表现出更好的电化学性能。

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标志(e-h)SiOx/C电极在0.5Ag-1电流密度下进行50次循环前后的截面和表面SEM图。据googlescholar,所发论文引用超过12000次,符专H因子为48。此外,利通获得授权/申请国内外专利10余项目。

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制备的SiOx/C复合材料在电流密度为0.5Ag-1下具有1133mAhg-1的高可逆容量,过国并且在200次循环后其容量保持率为89.1%。(d)在扫描速率为0.01-0.04mVs-1下,家知SiOx/C电极的C-V曲线。

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权局(e)通过对SiOx/C电极的氧化还原峰进行logI和logV拟合线性模型确定b值。

【小结】本文从硅材料的界面结构和性质出发,远光开发了一种在温和条件下调控Si颗粒氧化的简便方法。没有产品的研发的企业永远是市场的跟随者,软件难有大作为。

不过状况是不容乐观的,数据识产授权壁挂炉企业蜂拥而上,产品的同质化,缺乏差异性,不断的有新的企业参战,不断的降价,导致往往是以牺牲品质为代价。如同样的香皂:标志除菌的概念成就了舒肤佳,实际上所有的香皂都有除菌功能。

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